TFT彩屏是如何制作的?
TFT彩屏LCD液晶屏是如何制作的?以下LCD廠家作具體講解:
TFT-LCD液晶屏主要采用三種半導體材料:非晶硅(aS)、多晶硅( Poly-S)以及硒化鎘(Cdse)每種材料不但有自己獨特的制作流程,而且也有其不同的優(yōu)缺點。硒化鎘的歷史最久,它不在矩陣電路中可作為每個像素充電所需的場效應管,而且可以用來制作周邊的驅(qū)動電路。是到現(xiàn)在為止,一直沒能用這種技術(shù)做出一個大面積、高分辨率的彩色顯示器來。由于非薄膜場效應管有很低的漏電流,而又有足夠的工作電流,它的制作流程有很多地方與集成(MOS)元件的制作流程類似,因此它是目前使用最廣泛而且發(fā)展最成熟的材料。然而多晶硅薄膜場效應管技術(shù)可以將周邊的驅(qū)動電路與矩陣電路同時做到玻璃基片上,因硅材料很可能成為明日之星。因為目前大多數(shù) TFT-LCD均使用非晶硅,此處局限于非晶硅薄膜場效應管的制作流程中所使用的設(shè)備,諸如步進對準曝光機、等離子晶硅場效應管的制作流程。沉積機和濺射機等,除了體積大外,其他與半導體工業(yè)所使用的設(shè)備非常類似。最好 的結(jié)構(gòu)為反轉(zhuǎn)堆疊式。
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